基本信息

目前我们工艺所使用的化学试剂无法彻底清除晶片表面的蜡；腐蚀化学试剂氟化氢铵无法使晶片表面完全洁净。

a.找到一种合适的可以彻底清除晶片表面蜡的化学剂；

b.研究出新的腐蚀方法，提高晶片表面的光洁度，降低不良品的产生。